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         金屬真空電鍍廠電鍍應進行以下工藝：

         a.主要金屬真空電鍍廠在放有電鍍液的鍍槽中，通過整理和特別預處理的待鍍件作為陰極，用電鍍金屬製成陽極，南北極與直流電源的負極和正極連接。電鍍液由富含電鍍金屬的化合物、導電的鹽類、緩衝劑、pH調節劑和添加劑等水溶液組成。通電後，電鍍液中的金屬離子在電位差的作用下移動到陰極上形成塗層。陽極的金屬構成金屬離子進入電鍍液，以保持金屬離子的濃度。

         b.電鍍時，陽極的質量、電鍍液的成分、溫度、電流密度、通電時間、混合強度、雜質分離、電源波形等都會影響鍍層的質量，需要進行控製。金屬真空電鍍廠在某些情況下，如鍍鉻，是由鉛和鉛銻合金製成的不溶性陽極，隻具有傳輸電子和導電電流的效果。電解質中的鉻離子濃度應保持在鍍液中。以上是從兩個方麵了解金屬真空電鍍廠的電鍍過程。

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